企业又一项实用新型申请被受理

    2009年2月13日，企业又一项实用新型被国家局受理。这是企业继获得低温蓄冷装置等三项国家及sdei-p200控制App获得国家版权注册之后又一项申请。这项主要是试验箱控制屏隐蔽保护技术，它可以保证试验箱控制屏在任何情况下，不会被外界碰撞，人为的干扰或误操作。这项技术目前国内外尚无先例。